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韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院研發(fā)出一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體

韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院研發(fā)出一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體

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韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院研發(fā)出一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體

韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院研發(fā)出一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體

韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院研發(fā)出一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體

韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院研發(fā)出一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體

  來(lái)自韓國(guó)科學(xué)技術(shù)學(xué)院(Korea Advanced Institute of Science and Technology,KAIST)的團(tuán)隊(duì)研發(fā)了一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高性能超薄聚合絕緣體。他們用汽化單體在多種表面成功制備出聚合膜,比如塑料,這些普適的絕緣體為將來(lái)在電子設(shè)備上的應(yīng)用打下了基礎(chǔ)。這項(xiàng)研究結(jié)果在線發(fā)表于3月9日的《自然·材料》(Nature Materials)雜志上。

  我們?nèi)粘I钍褂玫默F(xiàn)代電子設(shè)備中,從手機(jī)、電腦到平板顯示器,場(chǎng)效應(yīng)晶體管無(wú)處不在。除了三個(gè)電極(柵極(gate),源極(source)和漏極 (drain))外,場(chǎng)效應(yīng)管還包括一個(gè)絕緣層和一個(gè)半導(dǎo)體溝道層組成。場(chǎng)效應(yīng)管內(nèi)的絕緣層能有效控制半導(dǎo)體溝道的導(dǎo)電率,從而控制晶體管內(nèi)的電流。為了 使場(chǎng)效應(yīng)管低功率穩(wěn)定運(yùn)行,應(yīng)用超薄的絕緣層十分重要。因?yàn)檠趸锖偷锏葻o(wú)機(jī)材料具有卓越的絕緣性和可靠性,絕緣層通常是由此類無(wú)機(jī)材料在硅和玻璃等 硬質(zhì)表面制成。 然而,由于這些絕緣層的高硬度和高制備過(guò)程溫度,它們很難用于柔性電子設(shè)備。

  近年來(lái),大量科研人員把聚合物作為前景樂(lè)觀的絕緣材料去研究,以適用柔性非傳 統(tǒng)基底和新興的半導(dǎo)體材料。然而,傳統(tǒng)技術(shù)制備的聚合物絕緣體在極小厚度的表面覆蓋仍不足,阻礙了應(yīng)用聚合物絕緣體的場(chǎng)效應(yīng)管在低電壓狀態(tài)下運(yùn)行。

  一個(gè)由韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院(KAIST)生化工程系的Sung Gap教授和電子工程系的Seunghyup Yoo、Byung Jin Cho教授領(lǐng)導(dǎo)的研究團(tuán)隊(duì)研發(fā)出了一種有機(jī)聚合物組成的絕緣層“pV3D3”。此絕緣層是利用名為“化學(xué)氣相沉降(iCVD)”的全干氣相技術(shù)制成,可使 它在不失去完美絕緣特性的情況下,厚度足以縮小到10納米(nm)之內(nèi)。 iCVD過(guò)程是讓氣狀單體和引發(fā)劑在低真空中相互接觸,最終沉積在基底上的共形聚合膜具有良好的絕緣性能。iCVD與傳統(tǒng)技術(shù)不一樣的是,十分均勻且純凈 的超薄聚合膜在一大片實(shí)際上沒(méi)有表層或底層限制的區(qū)域生成,與表面張力有關(guān)的問(wèn)題便得以解決。并且大部分iCVD聚合物在室溫下生成,減少了對(duì)基底施加的 張力和產(chǎn)生的損害。 科研團(tuán)隊(duì)通過(guò)使用pV3D3絕緣層,研發(fā)出了利用多種半導(dǎo)體材料如有機(jī)物、石墨烯和氧化物的低功率、高性能的場(chǎng)效應(yīng)管,證明了pV3D3對(duì)多種材料的廣泛 適用性。他們還用常規(guī)的包裝膠帶作為基底,制造出了一種粘貼性的、可移除的電子元件

  。在與韓國(guó)東國(guó)大學(xué)(Dongguk University)的Yong-Young Noh教授的合作中,科研團(tuán)隊(duì)成功地結(jié)合pV3D3絕緣層在一個(gè)大規(guī)模的柔性底層上開(kāi)發(fā)出了一種晶體管陣列。 Im教授說(shuō):“用iCVD技術(shù)制得的pV3D3所具有的小尺寸和廣泛適用性對(duì)聚合絕緣體來(lái)說(shuō)是史無(wú)前例的。即使我們的iCVD pV3D3聚合膜的厚度減小到10納米之內(nèi),它展現(xiàn)出的絕緣性仍比得上無(wú)機(jī)絕緣層。我們期待這項(xiàng)進(jìn)展能極大地有益于柔性電子器件的研發(fā),這將會(huì)對(duì)可穿戴計(jì) 算機(jī)等新興電子設(shè)備的成功起到關(guān)鍵作用?!?總結(jié):研究人員研發(fā)了一種用于場(chǎng)效應(yīng)晶體管(field-effect transistors,F(xiàn)ETs)的高性能超薄聚合絕緣體。他們用汽化單體在多種表面成功制備出聚合膜,比如塑料,這些普適的絕緣體為將來(lái)在電子設(shè)備上的應(yīng)用打下了基礎(chǔ)。

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